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薄膜基底材料

  薄膜基底材料>>>BK7基底

 

性能

材料

BK7

直径公差

+0.0~-0.25mm

厚度公差

±0.25mm

半径公差

±1%

表面质量

S/D=10/5 laser quality

表面面型

λ/10@ 633nm

通光口径

>90%

楔角

<5 minutes(f≤50mm) or <3 minutes(f>50mm)

倒角

0.25mm at 45°typical

镀膜

可选

Note: High Laser Induced Damage Threshold coatings are available upon request.

  薄膜基底材料>>>紫外级熔石英基底

性能

材料

UV grade fused silica

直径公差

+0.0~-0.25mm

厚度公差

±0.25mm

半径公差

±1%

表面质量

S/D=10/5 laser quality

表面面型

λ/10@ 633nm

通光口径

>90%

楔角

<5 minutes(f≤50mm) or <3 minutes(f>50mm)

倒角

0.25mm at 45°typical

镀膜

可选

备注: 可提供抗高损伤阈值镀膜.

  薄膜基底材料>>>氟化钙基底

性能

材料

IR grade CaF2

直径公差

+0.0~-0.25mm

厚度公差

±0.25mm

半径公差

±1%

表面质量

S/D=10/5 laser quality

表面面型

λ/10@ 633nm

通光口径

>90%

楔角

<5 minutes(f≤50mm) or <3 minutes(f>50mm)

倒角

0.25mm at 45°typical

镀膜

可选


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